ダイワピンボール

チリ共和国正式名:The Republic of Chile (CL)

制度概要
加盟条約 パリ条約、WTO協定、PCT
最新特許法の施行年月日 2012年2月6日施行
出願人資格 発明者及び承継人(自然人、法人)
出願言語 スペイン語
特許権の存続期間及び起算日 出願日から20年(産業財産法第39条)
但し、存続期間の延長制度有り。
(1)
特許付与に際して不当な行政上の遅延があり、出願日から5年または審査請求から3年のうち遅い方を超えて審査が行われた場合、追加の保護期間の請求可 (産業財産法第53条の21)。
(2)
医薬品の承認手続において不当な行政上の遅延があった場合、追加の保護期間の請求可(産業財産法第53条の22)。
新規性の判断基準 内外国公知、内外国刊行物(産業財産法第33条)
新規性喪失の例外
(グレースピリオド)
次のケースが定められている。期間は開示日から12月。
(1)
出願人若しくは出願人により許可された者の開示、又は出願人の行為に起因した開示
(2)
出願人又は発明者に対する濫用若しくは不公正な慣行による開示
(産業財産法第42条)
不特許事由
(1)
発見、科学理論及び数学的方法 
(2)
植物及び動物の品種
(3)
経済上、金融上、単純に証明される取引及び課税制度、方法、法則又は計画、並びに純粋に精神的若しくは知的活動をするための又はゲームをするための規則
(4)
外科又は治療による人体又は動物体の処理方法、及び人体又は動物体に対して行う診断方法
(5)
既知の特定の目的のために既に使用されている物品、物又は要素の新しい用途、及び出願された主題についての形状、寸法、比率又は材質の変更
(6)
公序良俗に反する発明
(7)
正当な所有者でない者によって出願された発明
(産業財産法第37条、第38条)
実体審査の有無及び審査事項 出願は、方式要件を審査する予備的審査が行われ、要件を具備するもののみ出願の要約が公告され、異議申立が可能となる。異議期間満了後、実体審査が行なわれる。
チリにおいては、願書に外国で最初に付与された特許の番号、又は外国での特許が取得されていない場合には出願番号を記載しなければならない。(産業財産規則第12条(e))
審査対象の出願について外国ですでに特許を出願している場合には、外国特許庁で既に行った調査及び審査の結果を提出しなければならない。(産業財産法第46条)
提出された対応外国出願についての情報を考慮に入れて先行技術調査を行い、審査対象について特許要件の判断が行なわれる。
審査請求制度
優先審査制度及び早期審査制度
出願公開制度 出願公開制度ではないが、出願は方式について予備審査が行なわれ、要件を満たしていると、出願の要約が公報により公告(公開)される。 
(産業財産法第43条、第4条)
異議申立制度 公告後、利害関係人は異議申立をすることができる。(付与前)
(産業財産法第5条)
無効審判制度 無効審判制度はないが、無効は、登録日から5年間に限り、裁判所に提訴することができる。
(産業財産法第50条)
実施義務
特記事項
制度概要
最新実用新案法の施行年月日 2012年2月6日施行
出願人資格 考案者及び承継人(自然人、法人)
出願言語 スペイン語
実用新案権の存続期間及び起算日 出願日から10年(産業財産法第57条)
新規性の判断基準 内外国公知、内外国刊行物(産業財産法第33条)
新規性喪失の例外
(グレースピリオド)
次のケースが定められている。期間は開示日から12月。
(1)
出願人若しくは出願人により許可された者の開示、又は出願人の行為に起因した開示
(2)
出願人又は発明者に対する濫用若しくは不公正な慣行による開示
(産業財産法第42条)
不登録事由
(1)
従来の実用新案又は発明に比較して何らのはっきりした有用性を有しない、小さな又は2次的な違いしか提示しない考案
(2)
単一でないものにかかわる考案
(産業財産法第56条)
実体審査の有無及び審査事項 予備審査を経て出願が受理され、発明と同様に審査が行われる。(産業財産法第43条)
審査請求制度
優先審査制度及び早期審査制度
出願公開制度 出願公開制度ではないが、出願は方式について予備審査が行なわれ、要件を満たしていると、公報により公告(公開)される。(産業財産法第58条、第4条)
異議申立制度 公告後、利害関係人は異議申立をすることができる。(付与前)
(産業財産法第5条)
無効審判制度 無効審判制度はないが、無効は、登録日から5年間に限り、裁判所に提訴することができる。
(産業財産法第60条、第50条)
実施義務
特記事項 保護対象:機械、器具、道具、装置若しくはその物又はそれらの一部であり、その形態がその外観と機能の双方において権利請求可能なもの(産業財産法第54条)

※特許庁の公開情報に基いて作成しております。 最終更新日:2021年3月10日

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